Adsorption of Triplet O~2 on Si(100): The Crucial Step in the Initial Oxidation of a Silicon Surface

• Autores: X. L. Fan, Y. F. Zhang
• Localización: Physical review letters, ISSN 0031-9007, Vol. 94, Nº. 1, 2005, pág. 16101
• Idioma: inglés
• Texto completo no disponible (Saber más ...)