Grabado anisotrópico de silicio para aplicación en micromaquinado usando plasmas de SF6/CH4/O2/Ar y SF6/CF4/O2/Ar

• Autores: J.W. Swart, S.A. Moshkalyov, C. Reyes-Betanzo
• Localización: Revista Mexicana de Física, ISSN-e 0035-001X, Vol. 50, Nº. 2, 2004, págs. 203-207
• Idioma: español
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