Form-birefringence structure fabrication in GaAs by use of SU-8 as a dry-etching mask

• Autores: M. Nezhad, L. Pang
• Localización: Applied optics: A publication of the Optical Society of America, ISSN 0003-6935, Nº. 12, 2005, págs. 2377-2381
• Idioma: inglés
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