Thermal Conductivity Measurement of Thermally-Oxidized SiO2 Films on a Silicon Wafer Using a Thermo-Reflectance Technique

• Autores: I. Hatta, R. Kato
• Localización: International Journal of thermophysics: Journal of thermophysical properties and thermophysics and its applications, ISSN 0195-928X, Nº. 1, 2005, págs. 179-190
• Idioma: inglés
• Texto completo no disponible (Saber más ...)