Creation of line defects in holographic photonic crystals by a double-exposure thresholding method

• Autores: C. Chang, H.-K. Liu, T.-M. Yan
• Localización: Applied optics: A publication of the Optical Society of America, ISSN 0003-6935, Nº. 13, 2005, págs. 2580-2591
• Idioma: inglés
• Texto completo no disponible (Saber más ...)