Amorphization of Si (100) under O⁺ implantation studied by spectroscopic ellipsometry

• Autores: R. Kesavamoorthy, G. Raghavan, S. Tripura Sundari, R. Prabakaran
• Localización: Solid state communications, ISSN 0038-1098, Vol. 133, Nº. 12, 2005, págs. 801-806
• Idioma: inglés
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