Preparation of a stable silica membrane by a counter diffusion chemical vapor deposition method

• Autores: Shin-Ichi Nakao, Takashi Sugawara, Suraj Gopalakrishnan, Kenta Ono, Mikihiro Nomura
• Localización: Journal of membrane science, ISSN 0376-7388, Vol. 251, Nº. 1, 2005, págs. 151-158
• Idioma: inglés
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