Wetting, adhesion and diffusion in Cu¿Al/SiO<sub>2</sub> system at 1473K
- Autores: Hidetoshi Fujii, Kiyoshi Nogi, Ping Shen
- Localización: Scripta materialia, ISSN 1359-6462, Vol. 52, Nº. 12, 2005, págs. 1259-1263
- Idioma: inglés
- Texto completo no disponible (Saber más ...)
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