Hydrogen insertion, ESR and Mössbauer studies of Cu<sub>0.5</sub>TaFeP<sub>3</sub>O<sub>12</sub>
- Autores: C. Bansal, M. Vithal, N. Anantharamulu, A.K. Mishra, K. Koteswara Rao
- Localización: Solid state communications, ISSN 0038-1098, Vol. 135, Nº. 11, 2005, págs. 692-697
- Idioma: inglés
- Texto completo no disponible (Saber más ...)
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