Residual Stress Behavior of Polyimide Thin Films: Effect of Precursors

• Autores: D. K. Yoo, S. J. Shim
• Localización: Journal of chemical engineering of Japan: An official publication of the Society of Chemical Engineers, ISSN 0021-9592, Nº. 8, 2005, págs. 615-622
• Idioma: inglés
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