Structural and Electronic Properties of the Interface between the High-k Oxide LaAlO~3 and Si(001)

• Autores: P. E. Blochl, C. J. Forst, K. Schwarz
• Localización: Physical review letters, ISSN 0031-9007, Vol. 95, Nº. 14, 2005, pág. 137602
• Idioma: inglés
• Texto completo no disponible (Saber más ...)