In situ study of stress relaxation mechanisms of pure Al thin films during isothermal annealing

• Autores: Young-Bae Park, Je-Hun Lee, Young-Chang Joo, Yong-Duck Lee, Soo-Jung Hwang, Chang-Oh Jeong
• Localización: Scripta materialia, ISSN 1359-6462, Vol. 54, Nº. 11, 2006, págs. 1841-1846
• Idioma: inglés
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