Resumen de Efecto de la temperatura de deposición en las características estructurales y ópticas de películas delgadas de nitruro de boro obtenidas por CVD
Se depositaron películas de nitruro de boro (BN) sobre sustratos de silicio mediante CVD térmico utilizando mezclas de diborano y amoníaco. Se estudió el efecto de la temperatura de deposición (T), en el rango 500 ¿ 1000 oC, sobre las características estructurales y ópticas de las muestras de BN. La velocidad de deposición alcanza su máximo (1600 Å/min) a T = 900 oC. La energía de activación (Ea) de la reacción NH3 + B2H6, determinada a partir de la representación de Arrhenius, es de 13.6 kcal/mol en el rango 500 ¿ 900 oC. La espectroscopia IR reveló la existencia de diferentes bandas correspondientes a enlaces B-H, N-H y B-N. La concentración de especies B-H y N-H está por debajo del nivel de detección mediante IR en las películas de BN depositadas a T = 800 oC. El análisis químico por espectroscopia XPS muestró la presencia de enlaces B-B y B-N. Al aumentar la temperatura de deposición se produce una disminución de los enlaces B-B, lo que favorece la formación de BN casi-estequiométrico a T = 1000 oC. A esta temperatura las películas resultantes de BN son altamente transparentes con un índice de refracción de 1.7. Las películas de BN depositadas a T = 900oC son amorfas, sin embargo a T = 1000oC cristalizan parcialmente con una estructura turbostrática.
