Se describe la instalación de un reactor plásmico versátil y de bajo costo, operando en el rango de r.f (27,12 MHz) con una potencia de hasta 150 W, para la deposición de películas de polímero y tratamiento superficial de materiales. Mediante este dispositivo se realizó la deposición de películas de polímero de butano, isobutano y etileno. El plasma generado en el reactor se estudia mediante la doble sonda electrostática.
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