Diffusion barrier performance of Zr�N/Zr bilayered film in Cu/Si contact system.

• Autores: Yen. Wang, F. Cao, M.-h. Ding, Y.-t. Liu
• Localización: Microelectronics reliability, ISSN 0026-2714, Vol. 48, Nº. 11-12, 2008, págs. 1800-1803
• Idioma: inglés
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