Characterization of ALN thin films deposited by DC reactive magnetron sputtering

• Autores: M. García Méndez, Santos Morales Rodríguez, R. Machorro, Wencel de la Cruz Hernández
• Localización: Revista Mexicana de Física, ISSN-e 0035-001X, Vol. 54, Nº. 4, 2008, págs. 271-278
• Idioma: inglés
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• Resumen

  • SE UTILIZÓ LA TÉCNICA DE EROSIÓN IÓNICA REACTIVA PARA CRECER PELÍCULAS DELGADAS DE NITRURO DE ALUMINIO (ALN). EL PROPÓSITO PRINCIPAL DE ESTE TRABAJO CONSISTIÓ EN ANALIZAR EL EFECTO DEL OXÍGENO EN LAS PROPIEDADES ÓPTICAS Y ESTRUCTURALES DE LAS PELÍCULAS. LAS PROPIEDADES ESTRUCTURALES Y ÓPTICAS DE LAS MUESTRAS SE CARACTERIZARON CON ESPECTROSCOPIA ELIPSOMÉTRICA Y DIFRACCIÓN DE RAYOS X, RESPECTIVAMENTE. LA MICROESTRUCTURA QUE PUEDEN PRESENTAR LAS PELÍCULAS PUEDE SER HEXAGONAL (TIPO WURZITA, P63M3) Ó CÚBICA (ZINC-BLENDA, FM3M), DEPENDIENDO DE LAS CONDICIONES DE DEPÓSITO. A PARTIR DE LA MEDICIÓN DE LOS PARÁMETROS ELIPSOMÉTRICOS (Ã,¢), SE UTILIZÓ EL MODELO DEL OSCILADOR SIMPLE DE LORENTZ PARA OBTENER UN ESTIMADO DEL ANCHO ÓPTICO, EG.