Resumen de No volatilidad en láminas ferroeléctricas de SBT a 75°C
R. Jiménez, Alberto González Benavente-García, C. Alemany, M. L. Calzada, J. Mendiola
- español
El estudio de la no volatilidad de una memoria FeRAM de tantalato de bismuto y estroncio, SrBi2Ta2O9 (SBT) en condiciones reales de uso, requiere la caracterización ferroeléctrica del material en forma de lámina delgada a temperaturas por encima del ambiente. Para ello se han depositado láminas de SBT mediante un método sol-gel, sobre substratos de Pt/TiO2/SiO2/Si(100), seleccionándose condensadores de área 5.10-4 cm-2. Basándonos en las medidas de la variación de la polarización con el tiempo (retención) realizadas a temperatura ambiente y a 75ºC, analizamos la viabilidad del material como una FeRAM en condiciones reales de uso.
- English
The study of the non-volatility of Strontium bismuth tantalate SrBi2 Ta2 O9 (SBT) FeRAM memory, at real operating conditions, requires the ferroelectric characterisation of the material, as a thin film, above the room temperature.As a result, it has been deposited SBT films by the sol-gel method, onto Pt/TiO2 /SiO2 /Si (100) substrates, using capacitors of 5 x 10–4 cm-2 .In this work, we analysed the viability of this material as a FeRAM memory in real operating conditions, as a result of the variation of the polarisation measurements with time (retention), performed at room temperature and 75ºC.
