Development of Transparent Alkylsulfonium Salt as a Photoacid Generator for ArF Excimer Laser Lithography

• Autores: E. Hasegawa, K. Nakano, K. Maeda, S. Iwasa
• Localización: IEICE transactions on electronics, ISSN 0916-8524, Vol. 81, Nº 7, 1998, pág. 1045
• Idioma: inglés
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