Characterization of AlON Thin Films Formed by ECR Plasma Oxidation of AlN/Si(100)

• Autores: S. I. Ohmi, G. Yamanaka
• Localización: IEICE transactions on electronics, ISSN 0916-8524, Vol. 87, Nº 1, 2004, pág. 24
• Idioma: inglés
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