High-Rate Deposition of Titanium Dioxide Films with Photocatalytic Activities by Gas Flow Sputtering

• Autores: K. Ishii, K. Kurokawa, S. Yoshihara
• Localización: IEICE transactions on electronics, ISSN 0916-8524, Vol. 87, Nº 2, 2004, pág. 232
• Idioma: inglés
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