Lithography Process for Trench Pattern above Large Cavity to Fabricate Fast Scanning Micromirror

• Autores: U. Krishnamoorthy, H. Wada, D. Lee, S. Zappe
• Localización: IEICE transactions on electronics, ISSN 0916-8524, Vol. 87, Nº 8, 2004, pág. 1395
• Idioma: inglés
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