Javier Álvarez Jiménez, Alberto Cordero Dávila
Usando trazo exacto de rayos, hemos calculado la visibilidad,ν , de ronchigramas en función del tamaño de la fuente lineal,L , y el factor de llenado,c , de la rejilla de Ronchi. Simulamos los casos para los cuales la fuente extendida está o no está detrás de la rejilla de Ronchi. Encontramos que ν decrece si L aumenta y logramos reproducir el común caso en el que ν mejora sustancialmente si la fuente extendida está detrás de la rejilla de Ronchi. En este último caso la visibilidad disminuye cuando el factor de llenado se incrementa.
By using an exact ray tracing, we have numerically calculated the ronchigram visibility,ν , as a function of linear source size,L , and duty cycle, c , of the Ronchi ruling. We simulated the cases for which extended source is or not from behind Ronchi ruling. We found ν decreases if L grows and we have reproduced the common case in which ν is substantially improved if extended source is from behind Ronchi ruling. In this last case visibility diminishes when duty cycle is increased.
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