Influencia del flujo diborano en la estructura de las películas de nitruro de boro depositadas por CVD

• Autores: A. Essafti, C. Gómez-Aleixandre, J.B. Albella
• Localización: Boletín de la Sociedad Española de Cerámica y Vidrio, ISSN 0366-3175, Vol. 34, Nº. 5-6, 1995, págs. 357-361
• Idioma: español
• Enlaces
  • Texto completo (pdf)
• Resumen

  • Se ha depositado películas de nitruro de boro por CVD a partir de mezclas de diborano, amoníaco e hidrógeno, utilizando diferentes flujos de diborano. Para bajas relaciones [B2H6]/[NH3](r£ 0.25) se obtiene nitruro de boro parcialmente cristalizado a baja velocidad de deposición. Estas películas con estructura turbostrática son inestables en atmósfera húmeda (80% humedad). Sin embargo, la utilización de altas relaciones (r£ 0.25) permite la deposición de películas de nitruro de boro amorfas y estables a velocidades muy superiores (160 nm min-1). La concentración de diborano en la mezcla gaseosa determina el mecanismo de formación del nitruro de boro durante el proceso de síntesis. Así, para bajas concentraciones de diborano se forma preferentemente boracina (B3H3H6) con estructura hexagonal plana, lo que favorece la formación de BN con estructura turbostrática (también hexagonal plana). Por otra parte, cuando se utilizan relaciones [B2H6]/[NH3] elevadas, se forma aminodiborano (B2H5NH2) como compuesto intermedio, y a partir de este compuesto se obtiene finalmente nitruro de boro amorfo con exceso de boro.