Resumen de Deposición de materiales electrocerámicos en capa delgada mediante técnicas de vacío
J. M. Albella, C. Gómez-Aleixandre, F. Ojeda
En este trabajo se hace una descripción detallada de los problemas asociados a la preparación de materiales electrocerámicos en lámina delgada utilizando técnicas de vacío. Se dedica especial atención a los aspectos energéticos resultantes de la interacción de los átomos que llegan a la superficie con la propia superficie de la película en crecimiento, ya que estos aspectos son en definitiva los que determinan los fenómenos de nucleación, crecimiento y estructura del depósito formado. Finalmente se estudia la influencia de los parámetros de deposición, la posible interdependencia entre ellos y la relación que guardan en cada caso con la morfología, la estructura cristalina y la composición de las películas depositadas. Entre estos parámetros hay que señalar la velocidad de deposición, la temperatura del substrato o la energía de los iones inertes o reactivos utilizados para activar el proceso de deposición.
