Resumen de Producción de películas delgadas de TiO2 obtenidas por la técnica de arco catodico
Liliam C. Agudelo Morimitsu, Daniel Escobar Rincón, Jhonattan De La Roche Yepes, Elisabeth Restrepo Parra, Pedro José Arango
Películas delgadas de Dióxido de Titanio (TiO2) fueron crecidas usando deposición física de vapor asistida por plasma (DFVAP) en un sistema de arco catódico a partir de un blanco de Ti. Para la producción de las películas, dentro de la cámara de reacción se ubicaron dos electrodos enfrentados (blanco y sustrato) a una distancia inter-electródica de 4 mm, la cámara de reacción se llenó con una mezcla de gases de argón y oxigeno hasta alcanzar la presión óptima de trabajo (2 mbar). Las descargas se realizaron a partir de un circuito RLC, el cual permite hacer variaciones de voltaje inter electródico de 0 a 300 voltios, con una corriente máxima de 300 amperios. Con GIXRD (Difracción de Rayos X a Incidencia Rasante) se evaluaron las fases cristalinas, el coeficiente de textura, tamaño del cristalito, micro deformación y el parámetro de red de las películas. Usando la ecuación de Scherrer se determino el tamaño del cristalito y la micro deformación teniendo en cuanta el ensanchamiento instrumental del equipo de XRD, además, para el refinamiento Rietveld se empleo una función pseudo voigt. El análisis de GIXRD muestra la formación de las fases rutilo y anatasa del TiO2, con estructura cristalina tetragonal y orientación en los planos (210) y (004), (204) respectivamente. Por medio del análisis de Microscopia Electrónica de Barrido (MEB) y espectroscopia de Energía Dispersiva de Rayos-X (EDX), micrografías y la composición elemental de los recubrimientos fueron obtenidas. Usando µ-RAMAN se corroboro la presencia de las fases correspondientes al TiO2.
