UV-laser-induced photolysis of trimethyl(vinyloxy)silane for chemical vapour deposition of polysiloxane films

• Autores: Zdeněk Bastl, Yoshinori Koga, Akihiko Ouchi, Josef Pola
• Localización: Applied organometallic chemistry, ISSN 0268-2605, Vol. 13, Nº 9, 1999, págs. 643-647
• Idioma: inglés
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