Quel développement des cépages résistants?: Éléments de réflexion tirés du projet Panoramix (INRA SMaCH 2015)

• Autores: François Hochereau, Noémie Clayssens, Adeline Alonso-Ugaglia
• Localización: Revue des oenologues et des techniques vitivinicoles et oenologiques: magazine trimestriel d'information professionnelle, ISSN 0760-9868, Vol. 42, Nº. Extra 157, 2015, págs. 28-31
• Idioma: francés
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