Resumen de One-dimensional mesh generation for critical points in an interval

Juan Luis González-Santander Martínez

• español

  Proporcionamos una teoría general para la generación de mallas unidimensionales no uniformes. A partir de esta teoría, deducimos procedimientos simples para el cálculo de mallas en donde la densidad de puntos se concentra en la vecindad de un punto crítico, es decir, una malla de tipo lorentziano y una de tipo exponencial. Este último caso es especialmente útil cuando el punto crítico está en uno de los extremos del intervalo. Se proporcionan ejemplos para mostrar que las mallas no uniformes consideradas mejoran la interpolación con respecto a una malla uniforme.

• English

  We provide a general theory for the generation of one-dimensional non-uniform meshes. From this theory, we derive simple procedures for the calculation of meshes wherein the density of points are concentrated in the neighborhood of a critical point, namely, a Lorentzian- and an exponential-type mesh. The latter is especially useful when the critical point is on one of the extremes of the interval. Examples are provided in order to show that the considered non-uniform meshes improve the interpolation with respect to a uniform mesh.