Resistividad de películas delgadas de CdS producidas por pulverización R. F, dependencia con las condiciones de producción

• Autores: Ignacio Mártil de la Plaza, Germán González Díaz, Francisco Sánchez Quesada, V.M. Rodríguez Vidal
• Localización: III Reunión Grupo Especializado de Electricidad y Magnetismo de la RSEF: comunicaciones, noviembre 1981, Vol. 2, 1981 (Electrónica), págs. 1-8
• Idioma: español
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• Resumen

  • Se analiza la dependencia de la resistividad y de las propiedades estructurales de láminas delgadas de CdS producidas por pulverización de R. F. Las variables modificadas fueron: temperatura del sustrato, densidad de potencia y presión de Ar. Las películas fueron policristalinas. Con tamaño de grano dependiente de la temperatura y cuyo valor medio fue 1000 A. La resistividad varió entre 10 elevado a 2 y 10 elevado a 8 Ω. cm, mostrando una clara dependencia con la temperatura del sustrato y la presión de trabajo.