Se presentan dos procedimientos diferentes para fabricar estructuras fotónicas en cristales de la familia KTiOPO4. En primer lugar hemos usado ablación mediante láser ultrarápido para fabricar un cristal fotónico 1D en la superficie de un cristal de RbTiOPO4, y hemos evaluado sus propiedades como red de difracción. También presentamos recientes avances obtenidos mediante un nuevo procedimiento de fabricación de cristales fotónicos 2D y 3D de KTiOPO4, crecidos epitaxialmente en la superficie de un substrato de KTP mediante fase líquida dentro de los macroporos de un molde de silicio. Se presentan resultados de su caracterización morfológica, estructural y óptica.
Two different procedures have been used for the fabrication of photonic structures in crystals of the KTiOPO4 family. We used ultrafast laser ablation to fabricate a 1D photonic crystal on the surface of an RbTiOPO4 crystal, and we evaluated its properties as diffraction grating. We also present the recent advances we developed in a new procedure of fabrication of 2D and 3D photonic crystals of KTiOPO4 grown on the surface of a KTP substrate by liquid phase epitaxial means within the pores of a silicon macroporous template, and their morphological, structural and optical characterization.
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