Alfonso Moreno, Juan Campos Coloma
Este trabajo nace de un proyecto europeo cuyo objetivo es la mejora en la calidad de la medida de la planitud de superficies, como por ejemplo obleas, pantallas de cristal líquido, etc. Para ello, se ha escogido una de las técnicas de la metrología óptica actual, la deflectometría óptica. Existen diferentes técnicas ópticas destinadas a la medida de la forma de superficies, como por ejemplo, el tiempo de vuelo de luz, la microscopía confocal, la microscopía basada en fuerzas atómicas, la interferometría, ? Mediante estas técnicas se consigue determinar las posibles irregularidades en la superficie muestreada respecto a una superficie patrón. Cada una de ellas presenta características diferentes en cuanto a resolución, rango dinámico, sensibilidad, dimensiones de la muestra. En este trabajo se presenta una revisión de estas técnicas y de sus características.
This work starts from a european project with the goal of improving the quality of the measurement of the planar surfaces, like for instance wafers, liquid crystal screens, etc. For that purpose we selected one of the actual metrology techniques: optical deflectometry. There exist different techniques devoted to the measurement of the shape of surfaces, like for instance light in flight, confocal microscopy, atomic force microscopy, interferometry… By means of these techniques it is possible to calibrate possible irregularities in the sample surface, with respect to a standard surface. Each one of these techniques presents different characteristics in terms of resolution, dynamic range, sensitivity or dimensions of the sample. In this work we present a revision of these techniques and their characteristics.
© 2001-2024 Fundación Dialnet · Todos los derechos reservados