Costanza Pellegrini, Won-Keun Kim, Andreas Holzamer, Thomas Walther, Nicola Patrick Mayr, Jonathan Michel, Tobias Rheude, Julio Núñez Villota, Albert Markus Kasel, Teresa Trenkwalder, Bernhard M. Kaess, Michael Joner, Adnan Kastrati, Heribert Schunkert, Michael Hilker, Helge Möllmann, Christian Hengstenberg, Oliver Husser
Introducción y objetivos Para lograr el éxito del dispositivo, se recomienda cierto sobredimensionamiento de la prótesis (SP) SAPIEN 3. Sin embargo, un aumento en el SP puede incrementar las tasas de implante de marcapasos definitivo (IMD). Por lo tanto, se investiga la influencia del SP en el fallo del dispositivo y el IMD.
Métodos Se trató con SAPIEN 3 a 804 pacientes en 3 centros. El SP, determinado mediante tomografía computarizada multicorte, se calculó y analizó como variable continua y categorizada en incrementos del 5%, con –4% a 0 como referencia.
Resultados Se produjo fallo del dispositivo en el 8,8% de los pacientes. La mediana de SP fue menor en los pacientes con fallo del dispositivo que en aquellos con éxito (el +4 frente al +8%; p=0,038). El SP mostró un patrón de riesgo no lineal, con una tasa de fallo del dispositivo significativamente reducida para valores entre el +4 y el +22%. No hubo ningún caso de fuga paravalvular II+ entre un +10 y un +20% de SP. La tasa general de IMD fue del 16,2% y la mediana de SP fue significativamente mayor en los pacientes con IMD (IMD, el +9% frente a no IMD, el +7%; p=0,025), mientras que la profundidad del implante no varió entre pacientes con y sin IMD (6,9±1,7 frente a 6,6±1,9mm; p=0,101). El riesgo de IMD aumentó con el aumento del SP y fue mayor en las 2 categorías más altas.
Conclusiones El incremento en el SP reduce el riesgo de fallo del dispositivo, pero aumenta el de IMD. No se halló un intervalo de SP ideal para minimizar los riesgos de fallo del dispositivo e IMD.
Introduction and objectives A certain degree of prosthesis oversizing (OS) is recommended for the SAPIEN 3 to achieve device success. However, an increase in OS may increase permanent pacemaker implantation (PPI) rates. We therefore investigated the influence of OS on device failure and PPI.
Methods A total of 804 patients were treated with SAPIEN 3 at 3 centers. Multislice computed tomography-derived OS was calculated and analyzed both as a continuous variable and categorized in 5% increments with −4% to 0% as reference.
Results Device failure occurred in 8.8% of patients. Median OS was lower in patients with device failure vs those with device success (+4% vs +8%; P=.038). A nonlinear risk pattern was shown for OS with a significantly reduced device failure rate within 4% to +22% of OS. There was no case of paravalvular leakage II+ between +10% to +20% of OS. The overall PPI rate was 16.2% and the median OS was significantly larger in patients with PPI (PPI: +9% vs no PPI: +7%; P = .025), while implantation depth did not vary in patients with vs without PPI (6.9±1.7 mm vs 6.6±1.9 mm; P=.101). The risk of PPI increased with increasing OS and was highest in the 2 highest categories.
Conclusions An increase in OS reduces the risk for device failure but increases the risk for PPI. There was no ideal range of OS to minimize both device failure and PPI.
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