Etidronato (Dual Rinse HEDP) para la irrigación de lavado del conducto radicular en la práctica clínica

• Autores: Matthias Zehnder
• Localización: Quintessence: Publicación internacional de odontología, ISSN 0214-0985, Vol. 7, Nº. 10, 2019, págs. 710-719
• Idioma: español
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• Resumen

  • Existen dos pasos esenciales para obtener un tratamiento endodóntico satisfactorio: la eliminación quimiomecánica de los restos pulpares, la posible película biológica existente y los materiales de obturación antiguos, así como el acondicionamiento de la dentina para que la obturación sea hermética frente a bacterias tras el tratamiento endodóntico. En este contexto, la sustancia química más importante es el hipoclorito de sodio (NaOCI) que se utiliza en solución acuosa para la irrigación de lavado y posee casi todas las propiedades necesarias para limpiar el conducto radicular; aunque carece de un efecto descalcificante. En este artículo, se presenta el aditivo Dual Rinse HEDP y se explica su aplicación. Este aditivo aporta directamente un componente descalcificante a las soluciones de NaOCI.

    Gracias a la solución de irrigación combinada de NaOCI y Dual Rinse HEDP no solo se simplifica el lavado químico de los conductos radiculares y el acondicionamiento de la dentina para las posteriores obturaciones de raíces y corona radícular, síno que tambíén se acorta el tíempo necesario para ello. Tras la instrumentación de los conductos radiculares, no hay que eliminar la capa de barrillo (smear layer) ni el detritus inorgánico, dado que la formación continuada de complejos de calcio inhibe su generación. En este caso, no se erosiona la dentina, tal y como ocurre en el acondicionamiento con EDTA, lo que tiene un efecto positivo en la adherencia de los materiales adhesivos.