Influencia de la potencia de depósito en la morfología de películas delgadas de óxidos de molibdeno depositadas por el método de sputtering.

• Mora-Leyva, A. N. ^[1] ; Alfaro Cruz, M. R. ^[1] ; Torres-Martínez, Leticia M. ^[1]
  1. [1] Universidad Autónoma de Nuevo León

     Universidad Autónoma de Nuevo León

     México

     
• Localización: Química Hoy, ISSN-e 2007-1183, Vol. 11, Núm 3, 2022 (Ejemplar dedicado a: Julio-septiembre 2022), págs. 3-8
• Idioma: español
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• Resumen

  • En este trabajo se presenta la influencia de la potencia en el depósito por sputtering en la morfología de películas delgadasde óxidos de molibdeno. Las películas fueron depositadas variando la potencia de depósito en 10, 20, 30, 40 y 50 W, endonde los espesores de las películas fueron de 46, 72, 218, 222 y 226 nm respectivamente. Las películas de óxido demolibdeno tienen una contribución de diferentes fases de los óxidos de molibdeno como MoO2 (tetragonal yortorrómbica), MoO3 (ortorrómbica) y el Mo30 (cúbica). La variación en la potencia de depósito permite el crecimientopreferencial de ciertos planos cristalinos de los óxidos de molibdeno. Las películas a bajas potencias presentaron unasuperficie homogénea con la aparición de algunos precipitados. Mientras que las películas depositadas con una potenciamayor presentaron una morfología en forma de barras orientadas en diferentes direcciones. El índice de refracción de laspelículas con una morfología de barras es mayor que el índice de refracción de las películas depositadas a una menorpotencia. Lo que confirma que el paso de la luz a través de la superficie es mucho mas lento para las películas depositadasa potencias mayores de 30 W que para las películas depositadas a 10 y 20 W.