Evaluación y Caracterización de la Nucleación y Crecimiento de Paladio Sobre Aluminio Mediante Electrodeposición Pulsada con Previa Oxidación

• Sebastian Arcila, Juan ^[1] ; Gómez Peña, Álvaro ^[1]
  1. [1] Universidad Nacional de Colombia
• Localización: Entre ciencia e ingeniería, ISSN-e 2539-4169, ISSN 1909-8367, Vol. 7, Nº. 13, 2013, págs. 70-75
• Idioma: español
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• Resumen

  • En esta investigación se estudió la dinámica de nucleación y crecimiento de Paladio sobre aluminio.  El empleo de la técnica de voltametría cíclica, permitió encontrar la zona donde  la reacción de reducción  de paladio ocurre. Posteriormente se estudiaron las corrientes catódicas bajo  condiciones potenciostáticas en términos de modelos teóricos de  nucleación  difusional,  basados en procesos transitorios como los establecidos  por  Sluyter [J. Electroanal. Chem. 177 (1984) 13],  Heerman and Tarallo [J. Electroanal. Chem. 470 (1999) 70]. Encontrando los parámetros de nucleación como coeficientes de Difusión de los Iones paladio (DPd), la constante de velocidad de nucleación (), y el número de sitios Activos  sobre el aluminio. Se caracterizó morfologícamente mediante técnicas instrumentales de Microscopia electrónica de Barrido (MEB) y EDX,  el  proceso de nucleación de paladio mediante electrodeposición pulsada bajo crecimiento lento, con previa oxidación.