Formación de películas delgadas base TiN sobre un acero AISI M2 mediante la técnica de PVD

• Autores: O.A. Gómez Vargas, J. Oseguera Peña, M. Ortiz Domínguez, J.A. García Macedo, J. Solís Romero, V.A. Castellanos Escamilla, U. Figueroa López, A. Arenas Flores, F.R. Barrientos Hernández, E. Cardoso Legorreta
• Localización: Tópicos de Investigación en Ciencias de la Tierra y Materiales, ISSN-e 2395-8405, Vol. 2, Nº. 2, 2015 (Ejemplar dedicado a: Tópicos de Investigación en Ciencias de la Tierra y Materiales), págs. 118-126
• Idioma: español
• Títulos paralelos:
  • Formation of TiN-based thin films on AISI M2 steel using the PVD technique
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    La deposición de películas delgadas de TiN con unos cuantos nanómetros de espesor se llevó a cabo a través de pulverización catódica reactiva de un blanco de Ti en una atmósfera de Ar+N utilizando una fuente de alimentación CC. Las películas depositadas se realizaron sobre probetas de acero AISI M2 cortadas de una barra de 1 a 1.5” de diámetro con espesores máximos de 8 mm. Finalmente, se caracterizaron las capas de TiN empleando diversas técnicas que incluyen: Microscopía Óptica (OM), Microscopía Electrónica de Barrido (SEM) vinculado con la Espectroscopia de Energía Dispersiva (EDS), Pin on disc y Scratch.

  • English

    The deposition of TiN thin films with a few nanometers thickness was carried out through reactive sputtering of a Ti target in an Ar+N atmosphere using a DC power supply. The deposited films were made on AISI M2 steel specimens cut from a 1 to 1.5” diameter bar with a maximum thickness of 8 mm. Finally, the TiN layers were characterized using various techniques including: Optical Microscopy (OM), Scanning Electron Microscopy (SEM) linked with Energy Dispersive Spectroscopy (EDS), Pin on disc and Scratch.