Periodo de publicación recogido
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Effect of mask-roughness on printed contact-size variation in extreme-ultraviolet lithography
P. P. Naulleau
Applied optics: A publication of the Optical Society of America, ISSN 0003-6935, Nº. 2, 2005, págs. 183-189
Design, fabrication, and characterization of high-efficiency extreme-ultraviolet diffusers
P. P. Naulleau
Applied optics: A publication of the Optical Society of America, ISSN 0003-6935, Nº. 28, 2004, págs. 5323-5329
Verification of point-spread-function-based modeling of an extreme-ultraviolet photoresist
P. P. Naulleau
Applied optics: A publication of the Optical Society of America, ISSN 0003-6935, Nº. 4, 2004, págs. 788-792
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