Resumen de Cristales fotónicos basados en ópalos
Marta Ibisate Muñoz
En eta tesis se han estudiado las condiciones de síntesis necesarias para obtener partículas de sílice en un amplio rango de tamaños, entre 100 y 1300 nm. La preparación de estas partículas con una pequeña dispersión de tamaños ha permitido la fabricación de ópalos artificiales cuyas bandas de atenuación abarcan el rango visible y parte del infrarrojo cercano del espectro electromagnético.
La formación de estas estructuras tridimensionales requirió el control de las propiedades físico-químicas de las superficie de las partículas.
Se obtuvieron ópalos de espesor controlado entre 10 y 50 um mediante confinamiento y ópalos de espesor de alrededor de 300 um mediante sedimentación en medios adecuados.
Se estudiaron las propiedades ópticas de estos ópalos y se compararon con las estructuras de bandas para este tipo de materiales que se han obtenido mediante cálculos teóricos.
Se preparó una línea de Deposición Química en Fase Vapor que ha permitido la infiltración de Si en los ópalos. Las propiedades ópticas de los materiales infiltrados así como de aquellos en los que se eliminaron las partículas iniciales han sido estudiadas y comparadas con los cálculos teóricos. La importancia de las estructuras inversas de Si radica en que la teoría indica que para dichas estructuras presentan existe un rango de frecuencias que no se puede propagar en ninguna de las direcciones del cristal, con lo que esto supone a la hora de poder aplicar este tipo de materiales en dispositivos fotónicos.
