Preparación de óxidos y ocinitruros de silicio mediante técnicas de CVD: aplicación a la modificación de membranas cerámicas para separación de gases

• Autores: Alejandro Castro García
• Directores de la Tesis: José María Albella Martín (dir. tes.)
• Lectura: En la Universidad Autónoma de Madrid ( España ) en 1998
• Idioma: español
• Tribunal Calificador de la Tesis: Fernando Rueda Sánchez (presid.), Aurelio Climent Font (secret.), Miguel Angel Ramos Carpio (voc.), Miguel Ángel Rodríguez Barbero (voc.), José Luis García Fierro (voc.)
• Materias:
  • Química
    • Química analítica
      • Espectroscopia de infrarrojos
  • Ciencias tecnológicas
    • Procesos tecnológicos
      • Circulación a través de medios porosos
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• Resumen

  • Se han depositado capas de oxinitruro de silicio a partir de silano, amoníaco y oxígeno, utilizando las técnicas LPCVD y PECVD.

    A partir del análisis por espectrocopía infrarroja ha podido comprobarse que el material preparado por LPCVD es una mezcla de dos compuestos (óxido de silicio y nitruro de silicio). En cambio, las capas preparadas por PECVD constituyen un compuesto químico SiOxNy en una sola fase.

    La utilización de estas técnicas de crecimiento en sustratos cerámicos porosos ha permitido modificar sus propiedades de permeabilidad a distintos gases. Esto puede encontrar aplicación en procesos de separación de hidrógeno en sistemas de producción de energía a partir de combustibles fósiles..