Negative bias temperature instability modeling for high-voltage oxides at different stress temperatures.

• Autores: R. Entner, T. Grasser, O. Triebl, H. Enichlmair, R. Minixhofer
• Localización: Microelectronics reliability, ISSN 0026-2714, Vol. 47, Nº. 4-5, 2007, págs. 697-699
• Idioma: inglés
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