Black¿s law revisited¿Nucleation and growth in electromigration failure.

• Autores: J.R. Lloyd
• Localización: Microelectronics reliability, ISSN 0026-2714, Vol. 47, Nº. 9-11, 2007, págs. 1468-1472
• Idioma: inglés
• Texto completo no disponible (Saber más ...)