Polarity asymmetry of stress and charge trapping behavior of thin Hf- and Zr-silicate layers.

• Autores: A. Paskaleva, M. Lemberger, A.J. Bauer
• Localización: Microelectronics reliability, ISSN 0026-2714, Vol. 47, Nº. 12, 2007, págs. 2094-2099
• Idioma: inglés
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