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Degradation behavior of Ta2O5 stacks and its dependence on the gate electrode.
Autores:
E. Atanassova
,
N. Stojadinovic
,
A. Paskaleva
Localización:
Microelectronics reliability
,
ISSN
0026-2714,
Vol. 48, Nº. 8-9, 2008
,
págs.
1193-1197
Idioma:
inglés
Texto completo no disponible
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