Intermittent-contact scanning capacitance microscopy versus contact mode SCM applied to 2D dopant profiling.

• Autores: R. Biberger, G. Benstetter, T. Schweinboeck, P. Breitschopf, H. Goebel
• Localización: Microelectronics reliability, ISSN 0026-2714, Vol. 48, Nº. 8-9, 2008, págs. 1339-1342
• Idioma: inglés
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