Non-linear width scaling of ESD protection devices and link with p-well implant in BCD-processes.

• Autores: E.H.T. Olthof, G.J. De Raad
• Localización: Microelectronics reliability, ISSN 0026-2714, Vol. 48, Nº. 8-9, 2008, págs. 1417-1421
• Idioma: inglés
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