Thermal Stability of W~2N Compound Barrier in W/W~2N/poly-Si Gate Electrode Configuration

• Autores: A. Noya, M. B. Takeyama
• Localización: IEICE transactions on electronics, ISSN 0916-8524, Vol. 86, Nº 11, 2003, pág. 2332
• Idioma: inglés
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