Resumen de Resistividad de películas delgadas de CdS producidas por pulverización R. F, dependencia con las condiciones de producción
Ignacio Mártil de la Plaza, Germán González Díaz, Francisco Sánchez Quesada, V.M. Rodríguez Vidal
Se analiza la dependencia de la resistividad y de las propiedades estructurales de láminas delgadas de CdS producidas por pulverización de R. F. Las variables modificadas fueron: temperatura del sustrato, densidad de potencia y presión de Ar. Las películas fueron policristalinas. Con tamaño de grano dependiente de la temperatura y cuyo valor medio fue 1000 A. La resistividad varió entre 10 elevado a 2 y 10 elevado a 8 Ω. cm, mostrando una clara dependencia con la temperatura del sustrato y la presión de trabajo.
