Cuba
El presente artículo se propone reflexionar en torno al problema del fetichismo tecnológico en las nuevas tecnologías de la imagen y de la informática, desde el enfoque de los estudios de Ciencia, Tecnología y Sociedad y desde otras tradiciones solidarias que han sostenido el mismo empeño. Tal es el caso del diálogo que proponemos al retomar el pensamiento de Carlos Marx sobre el fetichismo mercantil y su extensión junto con otros autores a la compresión de los problemas que las nuevas tecnologías de la imagen y las TICs pueden suscitar en la actualidad. El fetichismo tecnológico, en su dimensión ideológico-cultural tiene el potencial de hacernos mirar los efectos alienantes que puedan generar las nuevas tecnologías de la imagen y la informática en el ser humano. En este sentido defendemos la tesis de que la tecnología es una práctica sociocultural y por lo tanto no es solo su aspecto técnico lo que está implicado en su uso.
PALABRAS CLAVE: Fetichismo; Tecnología; Imagen; Virtual, Informática; Internet.
Technological fetishism in the new imaging and computer technologies ABSTRACT This article aims to reflect on the problem of technological fetishism in the new image and computer technologies, from the perspective of Science, Technology and Society studies and from other solidarity traditions that have sustained the same endeavor. Such is the case of the dialogue that we propose when returning to the thought of Karl Marx on mercantile fetishism and its extension together with other authors to the understanding of the problems that the new technologies of the image and the ICTs can raise today. Technological fetishism, in its ideological-cultural dimension, has the potential to make us look at the alienating effects that new image and computer technologies can generate in the human being. In this sense, we defend the thesis that technology is a sociocultural practice and therefore it is not only its technical aspect that is involved in its use.
KEYWORDS: Fetishism; Technology; Image; Virtual; Computing; Internet.
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