Comparison of the annealing behavior of thin Ta films deposited onto Si and SiO~2 substrates

• Autores: R. Hubner, M. Hecker, Volker Hoffmann, N. Mattern
• Localización: Analytical and bioanalytical chemistry, ISSN 1618-2642, Vol. 379, Nº 4, 2004, págs. 568-575
• Idioma: alemán
• Texto completo no disponible (Saber más ...)