Periodo de publicación recogido
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Comparison of deposition models for a TEOS LPCVD process.
S. Holzer, A. Sheikholeslami, M. Karner, T. Grasser, S. Selberherr
Microelectronics reliability, ISSN 0026-2714, Vol. 47, Nº. 4-5, 2007, págs. 623-625
M. Karner, A. Gehring, M. Wagner, R. Entner, S. Holzer, W. Goes, M. Vasicek, T. Grasser, H. Kosina, S. Selberherr
Microelectronics reliability, ISSN 0026-2714, Vol. 47, Nº. 4-5, 2007, págs. 704-708
Modeling current transport in ultra-scaled field-effect transistors.
V. Sverdlov, H. Kosina, S. Selberherr
Microelectronics reliability, ISSN 0026-2714, Vol. 47, Nº. 1, 2007, págs. 11-19
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